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天津鸿博新材料有限公司

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首页 > 供应产品 > 供应氧化铈材料,供应氧化铈信息,供应氧化铈供应商
供应氧化铈材料,供应氧化铈信息,供应氧化铈供应商
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产品: 浏览次数:1187供应氧化铈材料,供应氧化铈信息,供应氧化铈供应商 
品牌: 鸿博
型号: 1306-38-3
规格: ≥99.99%
单价: 面议
最小起订量: 1 吨
供货总量: 100 吨
发货期限: 自买家付款之日起 2 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2012-09-07 08:29
  询价
详细信息

氧化铈/纳米氧化铈
Cerium oxide
 
Cas号 【1306-38-3】  MDL:  --MFCD00010933 
Beilstein   EINECS:  --215-150-4
分子式 CeO2
分子量 172.11
别名 二氧化铈,氧化高铈,二氧化铈
Ceric oxide
Ceric oxide, ceria 
分子结构式 
性状 淡黄色或黄褐色粉末。不溶于水和碱,溶于盐酸和硫酸。
密度:7.3
熔点:2600℃
  
备注:  以上描述,仅作参考,并不表示您收到的产品,与此项描述完全相符,产品的出厂标准,请参见质量标准。
质量标准  
  99.95% metals basis,<50 nm particle size (BET):


外观Appearance                          nanopowder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to standard
纯度Purity                              ≥99.95% Based on Trace Metals Impurities of ICP
粒径Particle size                       <50 nm (BET)
surface area spec. surface area         30 m2/g (BET)
density                                 7.13 g/mL , 25 °C
bulk density                            0.53 g/cm3 
痕量金属分析total metallic impurities   ≤500ppm by ICP Atomic emission


99.95% metals basis,<100 nm (BET)

外观Appearance                          nanopowder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to standard
纯度Purity                              ≥99.95% Based on Trace Metals
粒径Particle size                       <100 nm (BET)
痕量金属分析total metallic impurities   ≤500ppm by ICP Atomic emission

99.99% metals basis:


外观Appearance                          Yellow to Tan powder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to standard
纯度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
ICP Assay                               Confirms  Cerium  component
灼烧损失loss on ignition typically      <1%
痕量稀土杂质rare earth impurities       ≤200ppm by ICP Atomic emission

20nm 球形,99.5%

外观Appearance                          nanopowder
X-射线衍射分析X-Ray Diffraction         Conforms to standard
痕量金属分析total metallic impurities   ≤5000ppm by ICP Atomic emission
纯度Purity                              ≥99.5% Based on Trace Metals
粒径Particle size                       <20 nm (BET)
 
贮存 密封保存。
用途 高效催化剂,精密抛光,化工助剂,电子陶瓷,结构陶瓷,紫外线收剂,电池材料等。 
联合国编号 
Risk:  R22- 
Safety :  S24/25- 
Hazard :  Xn 

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